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迷你管式真空熱處理爐外觀非常小巧，非常適合實驗室微量產(chǎn)品的熱處理，可用于車載設備也可放在手套箱里使用；加熱區(qū)100mm，采用石英爐管，石英管外徑25mm，可抽真空也可通入惰性保護氣體，使用簡便，功能齊全。

智能管式爐，可應用于納米材料、石墨材料、鋰電材料、晶體材料等新材料領域；可通入氮氣、氬氣等保護氣體，也可在真空下使用，本產(chǎn)品通過歐洲CE認證。

三溫區(qū)高溫管式爐應用于高等院校、科研院所、工廠企業(yè)、石油化工、航空航天等行業(yè)的金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料、粉末冶金等新材料領域的燒結和高溫熱處理。

化學氣相沉積(CVD管式爐)是指化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成涂層或納米材料的方法，是半導體工業(yè)中用來沉積多種材料的技術，包括大范圍的絕緣材料，大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料

高溫真空管式爐(觀察窗)應用于高等院校、科研院所、工廠企業(yè)、石油化工、航空航天等行業(yè)的金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料、粉末冶金等新材料領域的燒結和高溫熱處理。

【產(chǎn)品名稱】1700℃三溫區(qū)管式爐 【爐管尺寸】φ40--φ100mm 【加熱區(qū)】200mm+200mm+200mm 【額定溫度】1700℃ 【控溫精度】±1℃ 【應用領域】1700℃ 三溫區(qū)管式爐通過CE認證，額定溫度1700℃，爐管采用剛玉管，三個溫區(qū)采用獨立的控制系統(tǒng)，通過溫控調節(jié)可形成三個不同的梯度溫場，爐蓋開啟式結構，PID30段程序控溫，適用于精密陶瓷等新材料的熱處理。