產(chǎn)品特點

• 一、產(chǎn)品描述

  1200℃管式爐化學氣相沉積(CVD)是指化學氣體或蒸汽在基質(zhì)表面反應合成涂層或納米材料的方法，是半導體工業(yè)中用來沉積多種材料的技術(shù)，包括大范圍的絕緣材料，大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料

• 二、 產(chǎn)品特點

  爐外殼

  1、外殼采用金屬Q(mào)235低碳鋼，表面靜電耐藥涂裝，抗腐蝕

  2、 堅固的雙層金屬框架配合隔熱風扇結(jié)構(gòu)，爐表面溫度低

  3、水平使用方式，上開蓋結(jié)構(gòu)，操作方便

  耐火材料

  多層隔熱設計，由輕質(zhì)氧化鋁陶瓷纖維和高品質(zhì)隔熱板背襯組成，不含石棉成分，熱損失小，能耗低

  加熱系統(tǒng)

  1、高品質(zhì)HRE螺旋電阻絲發(fā)熱體，牢固的鑲嵌在爐膛表面，在爐腔內(nèi)自由熱輻射加熱，使用壽命長

  2、電阻絲環(huán)形加熱，從而實現(xiàn)爐內(nèi)的良好均勻性

  溫度控制面板

  1、PID配合SSR控制方式，溫度控制準確

  2、國際標準化N型鎳鉻硅熱電偶，測溫范圍0-1300℃，使用壽命長

  3、爐門帶有開門斷電保護開關(guān)

  程序控制器

  1、適應復雜工藝需求的的控制器

  2、操作簡單直接，編程靈活

  3、可編程4條曲線，單條曲線8個程序段

  4、超溫和故障報警，自動進行保護

  真空氣氛功能

  1、帶有304不銹鋼的密封法蘭，獲得爐管內(nèi)的真空或者氣氛

  2、高品質(zhì)石英玻璃工作管，也可選擇金屬或剛玉材質(zhì)的工作管，從而適應不同的工況

  3、高性能雙極旋片真空泵，可獲得5pa的真空度，數(shù)字真空計可顯示真空度

  4、帶有氣路控制單元，控制單元可選擇1-3路MFC自動控制系統(tǒng)